近日，索尔维推出多种半导体解决方案，针对湿法蚀刻和干法蚀刻的工艺过程，为半导体制造流程提供更多附加值。

为湿法蚀刻工艺量身定制的解决方案

湿法蚀刻是最流行的蚀刻工艺之一，是通过利用化学溶液溶解晶圆表面的材料，达到制作器件和电路的要求，具有成本低、量产高、选择比高等优点。但湿法蚀刻中还存在各项异性差、颗粒和工艺控制不足等问题。

索尔维推出的Halar® ECTFE（乙烯-氯三氟乙烯）结合了优良的耐化学性、耐受温度范围广（符合FM4910防火安全标准），出色的耐磨性和良好的抗冲击性等性能，能够抵御各种化学品和溶剂的侵蚀，同时适用于制造化学接触区和非化学接触区的结构件。不仅可满足任何湿法加工设备对高纯度条件的需求，在很大程度上还改进了湿法蚀刻中的化学输送系统，保持了管道和系统的洁净度。

图片来源于索尔维

Tecnoflon® FKM(氟橡胶) &PFR FFKM(全氟橡胶) 具有高纯度、低金属含量和使用寿命长等特性，耐受温度高达340℃，常被用于在集成电路制造过程中的各种关键密封应用中。能够增强O型圈和密封件的制造，使其具备特有的特性组合以确保最佳性能。

为干法蚀刻工艺量身定制的解决方案

干法蚀刻是指通过将材料暴露于离子轰击（通常是反应气体的等离子体）来去除材料。为了稳定地运转干法蚀刻的设备，半导体工厂需要优异的冷却剂和润滑油。同时，清洁度在干法蚀刻中也非常重要——加工后清洁度越高，越有利于提高器件的成品率。因此工艺中使用的蚀刻工具材料也需要具备出色的耐化学性和耐热性。

半导体工艺的等离子处理需要在真空条件下进行，真空泵的操作需要全天候24小时持续进行。索尔维推出的Fomblin® PFPE氟化润滑剂具有良好的润滑性、优异的耐化学性、惰性、出色的耐辐射性和水洗性能，可保持润滑性至150℃（真空泵温度至300℃），可以让真空泵在高温下仍保持精确运行，非常适合作为干法蚀刻工艺真空泵润滑剂。

图片来源于索尔维

Galden® HT PFPE作为一种惰性、高性能导热液，沸点介于55-270℃之间，在等离子操作过程中具有卓越的传热性能；结合了优异的化学稳定性和介电强度，可以承受很多侵蚀性条件。同时，Galden®导热液也可以在适中的温度下代替高蒸发率的导热液，从而降低蒸发损耗。

除此之外，索尔维还推出了用于UPW管道系统材料的Solef® PVDF和KetaSpire® PEEK、用于晶圆容器材料的KetaSpire® PEEK、用于干法蚀刻工具材料的Tecnoflon® FKM和PFR FFKM等解决方案。